涂胶显影机是半导体前道工艺中用于光刻胶涂布和显影的关键设备，其稳定运行直接影响光刻工艺良率。日常维护需结合清洁度控制、机械精度、化学兼容性及系统稳定性四大核心，以下是具体维护项目及周期制定逻辑：一、日常维护项目及周期1.每日维护(操作班/白班执行)目标：确保设备基础清洁、无泄漏、功能正常，避免工艺污染。•显影液/涂胶单元检查•检查喷嘴、管路有无药液残留或结晶(显影液多为碱性，易结晶；光刻胶易固化堵塞)；•确认药液液位在正常范围(避免因液位过低导致泵空转损坏)；•观察药液颜色/...