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产品详情
全自动匀胶显影机产品特点
● 适用于6、8、12吋晶圆的匀胶显影工艺；
● 产品主机由上料块（CSB）、工艺块（PRB）两块组成；
● 可满足正胶、负胶等工艺要求；
● 设备支持SEMI GEM标准；
● 采用多种安全保障措施和安全装置；
● 采用电脑自动控制系统,工艺菜单可根据需求进行修改并可保存多个菜单，工艺全过程直观、全面显示，互动性强；
● 系统控制全面、抗干扰性强、可靠性高、维修方便，具有故障提示和安全报警功能；
● 设备运行稳定、可靠、集成度高，结构合理紧凑，操作方便；
● 设备具有视频监控功能以及完善的日志功能；
● 可根据客户工艺制程特殊需求进行定制化服务。
| 功能简介 | 规格与说明 |
| 晶片尺寸 | 8吋、6吋 |
| 设备配置 | 标准： 1EFFM、2C 、2D、 1AD、4CP、 10LHP、2TRS等 |
| 设备产能 | 依工艺条件而定 （伺服电机可满足ARM转片速度要求） |
| 衬底材质 | Si、Glass、Sapphire、GaAs、 InP、GaN、SiC等 |
| 适用工艺 | G-line、i-line、 KrF、ArF、 Pl |
| 应用领域 | 功率器件、光通讯、科研、 LED、射频集成、 MEMS等 |
| CP | 温控23℃ ±0.2℃ |
| 匀胶显影电机 | 最高转速6000rpm、最大加速度30000rpm、精度±1rpm 、水冷 |
| LHP | 最高温度180℃、最小调整量0.1℃、控制方式PID |
| HHP （选配） | 最高温度250℃、最小调整量0.1℃、控制方式PID |
| PCH （选配） | 最高温度180℃、最小调整量0.1℃、控制方式PID |
| 胶泵 | 按客户工艺 （光刻胶粘度选配） |
| 流量计 | 按客户工艺要求选配 |
| 控制系统 | 工控机、 17“触摸屏 （可按客户需求配置） |
| 操作系统 | WINDOWS、图形化人机界面、可编程 |
| 通讯与信息化 | 以太网、配有SECS/GEM适配模块、提供现场通讯对接 |
| 厂务 | 标配水、电、气、液I/O接口 |
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